Tez Arşivi

Hakkımızda

Tez aramanızı kolaylaştıracak arama motoru. Yazar, danışman, başlık ve özete göre tezleri arayabilirsiniz.


İstanbul Teknik Üniversitesi / Fen Bilimleri Enstitüsü / İleri Teknolojiler Anabilim Dalı / Malzeme Bilimi ve Mühendisliği Bilim Dalı

Titanyum yüzeylerin katodik ark alüminyum plazması ile alaşımlanması

Alloying of titanium surfaces by cathodic arc aluminum plasma

Teze Git (tez.yok.gov.tr)

Bu tezin tam metni bu sitede bulunmamaktadır. Teze erişmek için tıklayın. Eğer tez bulunamazsa, YÖK Tez Merkezi tarama bölümünde 335696 tez numarasıyla arayabilirsiniz.

Özet:

Bu çalışmada, katodik ark fiziksel buhar biriktirme yöntemi ile farklı bias voltajları uygulanan kaplama ve yayındırma işlemleri ardışık bir şekilde gerçekleştirilerek titanyum taban malzeme yüzeyinde titanyum-alüminyum metaller arası bileşiklerinden oluşan yayındırma katmaları üretilmiştir Bu amaç doğrultusunda yöntem doğru akım ve alternatif akım olmak üzere iki farklı bias güç kaynağı kullanılarak uygulanmıştır Doğru akım bias güç kaynağının kullanıldığı kaplama-yayındırma işleminde katodik ark plazmasında bulunan iyonların düşük bias voltajlarında taban malzeme üzerine biriktirilmesinin ardından yine aynı plazmanın daha yüksek bias voltajı etkisi altındaki iyonları tarafından bombardıman edilerek yayındırılması ile titanyum-alüminyum metaller arası bileşiklerinden oluşan temel bir yayındırma katmanı elde edilmiştir Daha sonra temel yayındırma katmanı değişik bias voltajları ve süreleri ile bombardıman edilerek (kaplama-yayındırma ve bombardıman işlemi) yeni titanyum-alüminyum metaller arası bileşiklerden oluşan yayındırma katmanları üretilmiştir ...

Özetin tamamını okumak için tez.yok.gov.tr adresine gidin.

Summary:

In this study, cathodic arc physical vapor deposition process was used in a novel approach Application of different bias voltages during coating and diffusion processes facilitates the production of titanium-aluminum intermetallic layers on the titanium substrate This method was applied by two different processes, depending on the type of bias power supply In the first process, bias voltage is applied by means of direct current power supply Aluminum layer was deposited on a titanium surface using low bias voltage in cathodic arc plasma After the deposition of aluminum layer, titanium surface was bombarded increasing the bias to higher voltages in the same ion plasma to form the intermetallic phases of the titanium and aluminum ...

For full summary, please go to tez.yok.gov.tr.